High aspect ratio PS-b-PMMA block copolymer masks for lithographic applications

F. Ferrarese Lupi, T. J. Giammaria, F. G. Volpe, F. Lotto, G. Seguini, B. Pivac, M. Laus, M. Perego

Risultato della ricerca: Contributo su rivista › Articolo in rivista › peer review

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