Salta alla navigazione principale Salta alla ricerca Salta al contenuto principale

Charm production in deep inelastic muon-iron interactions at 200 GeV/c

  • M. Arneodo
  • , J. J. Aubert
  • , G. Bassompierre
  • , K. H. Becks
  • , C. Benchouk
  • , C. Best
  • , E. Böhm
  • , X. de Bouard
  • , F. W. Brasse
  • , C. Broll
  • , S. C. Brown
  • , J. Carr
  • , R. Clifft
  • , J. H. Cobb
  • , G. Coignet
  • , F. Combley
  • , G. R. Court
  • , G. D'Agostini
  • , W. D. Dau
  • , J. K. Davies
  • Y. Declais, U. Dosselli, J. Drees, A. Edwards, M. Edwards, J. Favier, M. I. Ferrero, W. Flauger, H. Forsbach, E. Gabathuler, R. Gamet, J. Gayler, V. Gerhardt, C. Gössling, J. Haas, K. Hamacher, P. Hayman, M. Henckes, V. Korbel, U. Landgraf, M. Leenen, M. Maire, S. Maselli, W. Mohr, H. E. Montgomery, K. Moser, R. P. Mount, E. Nagy, J. Nassalski, P. R. Norton, J. McNicholas, A. M. Osborne, P. Payre, C. Peroni, H. Pessard, U. Pietrzyk, K. Rith, M. Schneegans, T. Sloan, H. E. Stier, W. Stockhausen, J. M. Thénard, J. C. Thompson, L. Urban, H. Wahlen, M. Whalley, D. Williams, W. S.C. Williams, J. Williamson, S. J. Wimpenny

Risultato della ricerca: Contributo su rivistaArticolo in rivistapeer review

Fingerprint

Entra nei temi di ricerca di 'Charm production in deep inelastic muon-iron interactions at 200 GeV/c'. Insieme formano una fingerprint unica.
Ordina per

Keyphrases

Physics